一家专注于原子层沉积系统设计,加工,工艺研发及技术咨询的高科技公司,提供ALD,ALD镀膜设备,纳米涂层,纳米三防,纳米镀膜,封装涂层等材料,让工业没有难做的涂层!
艾德新材料

让工业没有难做的涂层

4新闻中心
您的位置:首页  ->  新闻中心  -> 公司动态

介绍原子层沉积ALD镀膜设备主要功能

文章出处:公司动态 责任编辑:东莞艾德新材料科技有限公司 发表时间:2021-09-18
  

原子层沉积ALD镀膜设备是一种用于化学、材料科学领域的分析仪器。

原子层沉积

原子层沉积技术(AtomicLayer Deposition, ALD)基于原子层沉积过程的自限制反应过程,所镀上的膜可以达到单层原子的厚度,因为原子层沉积工艺在每个周期内精确地沉积一个原子层,所以能够在纳米尺度上对沉积工艺进行完全控制,操作过程简易。
与目前的其他镀膜方法相比,具有沉积温度低,精确控制膜厚、薄膜结合强度好、逐层沉积膜层厚度一致、成分均匀性好等优越性,是先进的纳米表面处理技术。
原子层沉积设备已应用于半导体集成电路产业,给半导体工程,微机电系统和其他纳米技术应用提供了广阔的应用平台。
东莞艾德新材料科技有限公司 版权所有 【BMAP】【GMAP】【百度统计】【后台管理备案号:粤ICP备2021001843号 访问量:
技术支持:东莞网站建设
业务咨询

电话

联系电话

180-2757-1697

微信公众号

二维码

公众号二维码

手机网站

二维码

手机网站二维码

微信小程序

二维码

小程序二维码

403 - ֹ: ʱܾ

403 - ֹ: ʱܾ

Ȩʹṩƾݲ鿴Ŀ¼ҳ档