一家专注于原子层沉积系统设计,加工,工艺研发及技术咨询的高科技公司,提供ALD,ALD镀膜设备,纳米涂层,纳米三防,纳米镀膜,封装涂层等材料,让工业没有难做的涂层!

原子层沉积设备的功能

文章出处:互联网 责任编辑:东莞艾德新材料科技有限公司 发表时间:2022-04-27
  
 

原子层沉积设备是一种用于力学、物理学、材料科学领域的仪器,于2012年06月01日启用。

热ALD沉积Al2O3薄膜厚度均匀性:衬底:4英寸硅片;测试方法:9点;指标:Al2O3:300°C,500次循环,厚度 TMA+H2O; 原子层沉积(ALD)的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力;所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀。

功能:沉积参数(厚度,成份和结构)高度可控,优异的沉积均匀性和一致性。

原子层沉积设备的功能

应用范围:

(1)半导体领域(晶体管栅极电介质层(高k材料),光电元件的涂层,集成电路中的互连种子层,DRAM和MRAM中的电介质层,集成电路中嵌入电容器的电介质层。

(2)纳米技术领域(中空纳米管,隧道势垒层,光电电池性能的提高,纳米孔道尺寸的控制,高高宽比纳米图形,纳米晶体,纳米结构,中空纳米碗,存储硅量子点涂层,纳米颗粒的涂层,纳米孔内部的涂层,纳米线的涂层)。

(3)可沉积材料类型,金属氧化物ZnO,TiO2, Al2O3,SnO2,金属Pt, Ir等。

东莞艾德新材料科技有限公司 版权所有 【BMAP】【GMAP】 【百度统计】 【后台管理备案号:粤ICP备2021001843号 访问量:
技术支持:网一科技
业务咨询

电话

联系电话

189-2545-8830

微信公众号

二维码

公众号二维码

手机网站

二维码

手机网站二维码

微信小程序

二维码

小程序二维码

回顶

咨询